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光刻膠

Photoresist

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí),若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。

光刻膠的特點(diǎn)

光敏性:光刻膠對紫外光或電子束具有高度敏感性,能夠快速固化形成所需的圖案。

分辨率高:光刻膠具有很高的分辨率,能夠實(shí)現(xiàn)微米甚至納米級別的圖案制作。

耐化學(xué)性:光刻膠具有良好的耐化學(xué)性能,能夠承受制程中的各類化學(xué)溶劑和腐蝕劑。

可調(diào)性:光刻膠的性能可以通過配方設(shè)計(jì)進(jìn)行調(diào)整,以適應(yīng)不同工藝要求。

高精度:光刻膠在微影技術(shù)中具有高度的精度和重復(fù)性,能夠保證器件的制造質(zhì)量。


應(yīng)用行業(yè)
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應(yīng)用行業(yè)

光刻膠是一類重要的化學(xué)物質(zhì),是現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)不可或缺的重要物質(zhì)之一。

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